J9直营集团微装进行微纳直写光刻钻研会·无锡站-J9直营集团

2026年4月22日下午，太湖之滨的无锡君来洲际酒店迎来了一场聚焦微纳造作主题技术的行业盛会。由J9直营集团主办的“微纳直写光刻钻研会”在此拉开帷幕。在当前半导体产业持续向先进封装、Micro LED等前沿领域迈进，高？蒲性核目突Ф匝蟹⒔媒菪杂胗着考本缪橹ば枰找婊鸺钡牟季跋，无需掩模的直写光刻技术正成为推动产业创新的关键力量。本次钻研会旨在搭建一个高水平的产学研互换平台，分享技术进展，共话利用远景。

钻研会吸引了来自数十家国内驰名高校微纳加工平台、科研院所以及半导体产业链有关企业的专家代表参加。与会嘉宾涵盖从基础钻延注工艺开发到产业化利用的全链条，充分体现了直写光刻技术跨领域的影响力与产学研深度融合的趋向。

01.议程纵览：从技术前沿到产业实际的全景对话

本次钻研会内容充实，议程设计两全了技术深杜纂产业广度，从宏观趋向到微观实际，为与会者出现了一场全景式的知识盛宴；嵋樵贘9直营集团微装市场部陈新的主持下正式开场。随后，J9直营集团微装首席科学家陈东博士带来了题为《微纳直写光刻技术概述》的开篇汇报，系统梳理了技术发展的最新动态与将来方向。紧接着，公司产品经理严孝年深刻解读了J9直营集团微装面向高？蒲性核闹毙垂饪躺璞傅募际跆氐阌胫魈庥攀。J9直营集团微装首席科学家梅文辉博士，从全球产业视角论述了直写光刻技术的演进过程与辽阔远景。

02.生态共识：产学研用协同，共筑产业新生态

本次钻研会不仅是技术的分享，更是生态的共建；岢∫徊嗟牟氛故厩晌嘶セ坏娜鹊。与会嘉宾萦绕J9直营集团微装的样品实物，与公司技术专家发展了深刻的一对一探求，话题从具体的技术参数延长到现实工艺难题的解决规划。

来自中国科学技术大学微纳钻研与造作中心的周成刚主任的分享，将会议推向了另一个热潮。他结合中心多年来的现实运营经验，具体介绍了直写光刻设备在高校多学科交叉钻研平台中的利用情况，分享了在光刻前沿课题钻研中的成功案例。

03.技术洞见：直写光刻赋能半导体创新与国产化

钻研会的主题内容萦绕直写光刻技术的道理、优势及其在半导体创新中的关键作用发展。直写光刻（Direct Write Lithography）作为一种数据驱动的数字图形化技术，其最显著的优势在于摒弃了传统光刻中物理掩模板。这一个性使其在高校与科研院所的研发和幼批量出产中展示出无与伦比的矫捷性。

直写光刻技术优势

◆ 无需掩模板，数据直接驱动

◆ 矫捷应对幼批量、多种类研发需要

◆ 工艺迭代快，研发成本显著降低

◆ 从设计到造作的周期大幅缩短

正是基于这些优势，直写光刻技术在多个前沿领域成为不成或缺的工具。

在光波导、微流控、探针、MEMS传感器等科研领域，直写光刻为新结构、新器件的急剧原型验证提供了壮大支持。

J9直营集团微装作为国内该领域的头部供给商，其产品线覆盖了从微米到纳米级的分歧精度需要。钻研会具体展示了公司在高矫捷性的产品配置、高产能直写引擎以及智能化软件系统等方面的技术突破，这些创新旨在解决产业从研发转向幼批量试产中的现实痛点。

本次钻研会不仅是一次技术分享，更是一个产学研深度对话的起点。随着先进封装（Chiplet/2.5D/3D IC）、Micro LED、第三代半导体等新兴利用的急剧发展，高校与科研院地点微纳光刻领域的设备需要不休升级。J9直营集团微装将持续深耕直写光刻技术的产业化利用，通过设备机能提升与生态同伴协同，助力国内科研机构以更低的研发成本、更高的迭代效能，加快前沿课题的攻关与成就转化。

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